项目 | 内容 |
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分解能*3 | 4.0 nm @ 20 kV (SE:高真空模式) 15.0 nm @ 1 kV (SE:高真空模式) 5.0 nm @ 20 kV (BSE:低真空模式) |
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加速电压 | 0.3 kV ~ 20 kV |
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放大倍率 | 6× ~ 300,000× (底片倍率) 16× ~ 800,000× (显示倍率) |
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低真空模式 | 真空范围:6 ~ 100 Pa |
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电子枪 | 预对中钨灯丝 |
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样品台 | 3-轴自动马达台 X:0 ~ 40 mm, Y:0 ~ 50 mm, Z:5 ~ 15 mm R:360°, T:-15° ~ +90° |
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最大样品尺寸 | 直径80 mm |
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最大样品高度 | 40 mm |
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尺寸 | 主机:450(W) x 640(D) x 670(H) mm 供电单元:450(W) x 640(D) x 450(H) mm |
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探测器选配 | 高灵敏度低真空二次电子探测器(UVD) 能量分散型X线探测器(EDS)
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